日本JSR：全球 ArF 光刻胶龙头
市占高达90%，日本持续发力EUV光刻胶
据日经报道，日本半导体材料制造商 JSR 周五表示，它将收购总部位于俄勒冈州的 Inpria，着眼于后者在尖端芯片制造化学品方面的专业知识。
据相关报道，在 2017 年和 2020 年，JSR 参与了 Inpria 的融资， 并拥有公司 21% 的流通股。通过此次交易，JSR 将收购剩余股份，Inpria 将成为 JSR Corporation 的全资子公司。此次收购的执行取决于多项条件，包括收到监管许可，预计将于 2021 年 10 月底完成。
JSR 首席执行官埃里克约翰逊周五在网上告诉记者，他打算让 Inpria 在 2022 财年实现盈利。
JSR 已经运营了 60 多年，制造范围广泛的功能材料，最近将其业务和未来扩张重点放在其数字解决方案上，其中包括半导体材料和生命科学业务，这两项业务的目标都是推动增长，非常适合利用公司在技术创新方面的优势。JSR 计划利用在大批量制造、质量控制、供应商管理和客户参与方面数十年的经验，进一步加强其支持和支持 IC 行业的能力。
自2007年成立以来，Inpria一直致力于开发基于金属的EUV光刻胶。其主要产品主要由氧化锡组成，使用EUV曝光系统实现了世界上最高分辨率。此外，金属基光刻胶在干蚀刻过程中的图案转移性能方面优于传统光刻胶，非常适合半导体量产工艺。
随着此次收购的完成，JSR 将把 Inpria 的金属基光刻胶添加到JSR的光刻胶产品组合中，作为一家支持我们客户当前和未来技术的先进材料公司，无缝地提供价值。
“芯片制造商高度重视 Inpria 的技术，我认为我们正走在一条有希望实现盈利的道路上，”JSR 常务官 Tadahiro Suhara 说。Inpria 在光刻胶领域享有盛誉，包括用于极紫外光刻的光刻胶。光刻胶用于在硅片上印刷电路。随着半导体变得越来越小，芯片制造商一直需要更复杂的产品。
JSR 还希望在金属氧化物光刻胶方面利用 Inpria 的技术，该技术专为生产下一代半导体而设计。JSR 和其他日本公司在光刻胶领域拥有全球约 90% 的份额。
Johnson 表示，全球光刻胶市场将在未来十年翻一番，并补充说，持续积极的投资将是 JSR 保持技术优势的关键。
日本合成橡胶公司（JSR）成立于 1957年，聚焦四大主业：合成橡胶（收入占比 38%）、数码解决方案（31%）、塑料（20%）与生命科学（11%），其中数码解决方案涵盖光刻材料、化学机械抛光 CMP 材料等。目前公司光刻胶全球市占率 13%（其中 ArF 光刻胶位居第一）2000-2019 财年公司收入及净利润复合增速为 3.9%和 12.7%。2019财年综合毛利率近 30%，净利率近 5%，公司研发投入占营收的 5%。
自 90 年代起，JSR 将注意力集中在了电子产品材料及半导体材料方面，先后在北美、欧洲、韩国、中国台湾、中国大陆等地区设立了光刻胶及平板材料工厂，并逐步推出了新一代的光刻胶产品。
进入 21 世纪后，JSR 的光刻胶技术得到了进一步的突破。2004 年通过沉浸式 ArF 首次实现了 32nm 分辨率；随后 2006 年又与 IBM 进行合作，实现了30nm 的线宽。2011 年 JSR 与 SEMATECH 共同研制了用于 15nm 工艺的 EUV光刻胶；2015 年 JSR 与IMEC 签署合作意向书，并于次年设立了一家合资企业（EUV RMQC），进一步推动公司 EUV 光刻胶的研发进程。
JSR 的光刻胶业务市场占有率长期位于世界前列。截至 2019 年末，公司在全球光刻胶领域的市场占有率约为 13%，位居第三，仅次于 KrF 光刻胶龙头东京应化（27%）与 EUV 光刻胶龙头美国陶氏化学（17%）。在 ArF 光刻胶市场，JSR 的全球市占率约为 24%，位居第一；在 KrF 光刻胶市场，JSR 全球市占率约为 18%，位居第三。
在光刻胶领域，日本是全球的领先厂商，尤其是在EUV光刻胶方面，他们的市场占比更是高达90%，然而他们似乎并没有放慢脚步。
据《日经新闻》日前报导，富士胶片控股公司和住友化学将最早在2021年开始提供用于下一代芯片制造的材料，这将有助于智能手机和其他设备向更小、更节能等趋势发展。报道进一步指出，富士胶片正投资45亿日元（4,260万美元），在东京西南部的静冈县生产工厂配备设备，最早将于明年开始批量生产。该公司表示，使用该产品，残留物更少，从而减少了有缺陷的芯片。
同时，住友化学将在2022财年之前为大阪的一家工厂提供从开发到生产的全方位光刻胶生产能力。由于其强大的市场，该公司已经达成了向大型制造商提供产品的临时协议。
日经新闻最新报导指出，日本信越化学工业公司将耗资约300亿日圆（2.85亿美元），将半导体厂重要材料光刻胶的产能调高20%，而且将首度在台湾生产，借此为先进芯片的生产扩大供应。
信越化学将在日本与台湾投资生产光刻胶的新设备。这种材料用于在矽晶圆上形成电路图案。
随着半导体材料领域的竞争加剧、加上用于5G装置、资料中心与其它应用的芯片需求成长，让信越化学这家日本具领导地位的光刻胶大厂提高产能。
日经报导指出，信越化学在台湾的云林厂将从2021年2月左右率先新增产能。届时，信越化学将开始在台湾生产这种用于适合用于先进极紫外光（EUV）光刻技术的光刻胶。以往这种材料只在日本生产。信越化学希望此举能满足台积电等客户攀高的需求。
在日本，信越化学位于新泻县直江津的工厂的新设备预定在2022年2月开始运作。在台湾的产能将提高50％，直江津工厂将提高20％，同时也会扩编员工人数。
信越化学也将为南韩、中国大陆与其他市场的客户提高产量。
其他日本光刻胶大厂，包括JSR与东京应化工业公司，也同时在日本与海外生产EUV光刻胶，而住友化学和富士胶片（Fujifilm）则准备进入这一领域。
