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这家上市公司光刻胶获新突破!可用于第三代半导体,年底投产?

发布日期:2021-10-13 浏览次数:296 作者:网络
 

今日,七彩化学在投资者互动平台表示,公司计划年底投产,主要用紫外正型光刻胶产品,主要对应显示器、封装OLED第三代半导体等。


此类正性光刻胶在使用时的曝光波长为300-450 nm,曝光波长越短,成像分辨率越高。此类光刻胶的图形特征尺寸最小可达到200纳米


项目正处在待调试阶段,能否达到预期水平,存在不确定性,请投资者注意风险。


至关重要的光刻胶


作为半导体制造的核心流程,光刻工艺对于芯片制造来说至关重要,成本约占芯片总成本的35%,耗时约占整个芯片总耗时的50%,而光刻胶是光刻工艺最重要的耗材。


目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、信越化学、罗门哈斯等,市场集中度非常高,所占市场份额超过85%,在高端EUV光刻胶上甚至占比达95%以上。




国产光刻胶快马加鞭


如今,无论先进制程,还是成熟制程,全球芯片制造业都在建厂,扩产。国内光刻胶需求量远大于本土产量,且差额逐年扩大,尤其是在高端KrF、ArF等半导体光刻胶。


2021 年一季度,全球光刻胶市场维持增长态势再创新高,达到 5.67 亿美元,较上年同期增长 19.5%。中国大陆光刻胶市场达 1.1 亿美元,较上年同期增长 52.7%。


在此背景下,国内光刻胶厂商快马加鞭,加快前进的步伐,近年在半导体光刻胶关键技术领域取得突破。目前,国内涉足研发KrF级别以上产品的公司有徐州博康、彤程新材、南大光电、上海新阳、晶瑞股份。


徐州博康:从事光刻材料领域中的中高端化学品业务,旗下汉拓光学产品线覆盖电子束光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶、I线光刻胶等半导体光刻胶系列产品。


此前获华为3亿投资,今年投建新生产基地,建成后将拥有年产1100t光刻材料的产能,年产值20亿元,利税超亿元。


彤程新材:唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司,其ArF光刻胶已经量产,旗下北京科华的KrF光刻胶已经批量供应国内主要的12吋、8吋晶圆厂。


上海新阳:积极布局光刻胶业务,主攻KrF和干法ArF光刻胶,目前已进入产能建设阶段。自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证,并成功取得订单,暂无EUV光刻胶研发计划。公司预计KrF厚膜光刻胶可在2022年实现稳定量产销售,ArF光刻胶将于2023年开始量产。


南大光电:专业从事高纯电子材料研发,从前驱体、电子特气、光刻胶三大半导体材料布局。其自主研发的ArF光刻胶可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点,并已经实现产业化。目前,南大光电已经完成2条光刻胶生产线建设。


晶瑞股份:KrF光刻胶已经完成中试,正进入客户测试阶段,ArF光刻胶尚在研发过程中。此前,晶瑞股份曾购买ASMLXT 1900 Gi型ArF浸入式(DUV)光刻机一台,用于高端光刻胶研发。

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