目前，我国已成为制造业大国，但大而不强等问题依然突出。在高端装备领域，我国80%的集成电路芯片制造装备、40%的大型石化装备、70%的汽车制造关键设备及先进集约化农业装备依然依靠进口。这其中，集成电路芯片制造装备尤其“卡脖子”，没有顶尖的光刻机，是我国半导体行业发展的最大瓶颈，成为当下国人最大的一块心病。
前段时间，荷兰半导体生产设备制造商ASML向客户交付了一台新一代的EUV光刻机，ASML新一代的EUV光刻机，售价高达1.45亿美元，折合成人民币大约9.3亿元，即使是财大气粗的某位地产大佬，也要至少九个“亿元小目标”才能实现。
但是对于不差钱的芯片巨头来说，花9.3亿元买一台高端的EUV光刻机，也是非常划算的，因为能带来更高的经济效益。根据ASML官方披露的数据显示，在产能方面，新一代的EUV光刻机，相较于旧款而言，提高了近20%，而且精度更是提升了30%！这意味着新一代的EUV光刻机比老款更为高端。
值得一提的是，在整个芯片的制造流程中，最重要的便是光刻工艺，因为光刻是直接确定芯片关键尺寸的一步，所以其在整个过程中，约占总成本的35%。据悉，一台EUV光刻机每小时可以处理200片12寸晶圆。以此类推，其一天在饱和工作的状态下，可以处理4800片12寸晶圆，一年便是1752000片12寸晶圆。当然，无法做到全年无休，所以按照一天工作12个小时保守估计，那么一年下来就是876000片12寸晶圆。一块12寸的晶圆可以生产650片麒麟芯片，一年的话，一台光刻机可以生产大约5.6亿麒麟9000芯片，单颗麒麟9000的总成本约为44.7美元，按照成本计算一台光刻机产值在876亿美元。
据悉，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻。大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。简而言之，光刻机需要的EUV光，要求是波长短，功率大。EUV光刻机工作相当于用波长只有头发直径一万分之一的极紫外光，在晶圆上“雕刻”电路，最后将让指甲盖大小的芯片包含上百亿个晶体管，这种设备工艺展现了人类科技发展的顶级水平，而昂贵的EUV光刻机也正是实现5nm的关键设备。
ASML是在20世纪90年代从荷兰综合企业巨头荷兰皇家飞利浦中分拆出来的公司，总部设在靠近比利时边境的韦尔德霍芬。目前，荷兰ASML是全球唯一一家能够量产EUV光刻机的厂商，而由于禁令，我国中芯国际订购的一台EUV仍未到货。
前段时间ASML正式对外公布的2021年第二季度的财报，相关数据显示，2021年第二季度ASML实现净销售额40.20亿欧元，同比增长20.90%，净利润为10.38亿欧元，同比增长38.22%，并且订单总价值高达83亿欧元。这份成绩足以证明ASML的实力，它的客户可谓是遍布全球。其中EUV极紫外光刻机就有49亿欧元，而总的积压订单金额已达175亿欧元。
靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠。核心工艺和装备只有掌握在我们自己手中，才能避免受制于人。路漫漫其修远兮，我国要想在光刻机领域实现完全自主国产化，还有很长的路要走。
