在当前的半导体制程不断往7nm以下发展时,EUV光刻机就成了IDM和代工厂必不可少的工具之一。随着台积电、三星、英特尔和SK海力士等企业的EUV光刻机纷纷到位,这些顶级半导体制造厂商和EUV光刻机的唯一制造者ASML还有另一个问题需要担心,那就是光罩防尘膜。
90%透射率这道坎
光刻机防尘膜 / 三井化学
离正式使用还有多久?
EUV防尘膜 / 三井化学
碳纳米管EUV防尘膜 / IMEC
结语
90%透射率这道坎
离正式使用还有多久?
结语
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