半导体逐渐微细化/积层化，生产流程也随之逐渐复杂，温度控制的重要性与日俱增。尤其是即使细微的温度偏差和波动也会影响品质，因此最小化温度控制幅度至关重要。
此外，由于精度提高，设备内的温度控制区域数量不断增加，为确保设备占地面积保持不变，必须在控制柜内的有限设备空间中高效配置，兼顾生产品质和空间效率成为一大课题。
高级温控（状态监视）方案
通过可视化的设备状态监视，实现细微化工艺段的稳定生产
课 题
随着半导体微细化 / 积层化，生产流程的精度与日俱增，对设备环境的变化也越来越敏感。然而，目前很难根据产品生产过程中出现的品质问题捕捉现象，对于生产周期较长的半导体生产流程而言，保障产品品质稳定成为一大课题。
高级温控（小型多点控制）方案
细微化工艺段中的多点化温控，有助于提升品质和生产效率
为实现高度数字化的社会，对半导体微细化/积层化的需求日益高涨，其生产流程也随之逐渐复杂，因此温度控制的重要性与日俱增。尤其是为了提高加工精度，需要实现更加精细的温度控制。即使细微的温度偏差和波动也会影响品质，因此必须详细掌握温度变化。
此外，随着设备性能提高，必须增加控制点数，另一方面，还必须满足维持产能和减少设备占地面积的需求，在保障品质的同时缩减尺寸成为一大课题。
高级温度控制方案
精细控制工序的温度，同时兼顾品质与产能
随着半导体的微细化、积层化和二次电池的高容量化等，温度控制的重要性与日俱增。为了提高加工精度，需要对温度进行更加精细的控制，调整温度要花费大量时间，即使是细微的温度偏差和波动也会影响品质。
