截图自企查查
光刻胶是芯片制造中光刻环节的重要材料，目前主要被日美把控，国内在光刻胶方面投入研制的厂商主要晶瑞股份、南大光电、上海新阳、徐州博康、北京科华等，那么华为投资的徐州博康在光刻胶方面有何优势，国内厂商在光刻胶上的研制进展如何？
国内唯一 光刻胶单体材料全部自供
徐州博康是集研发、生产、经营中高端光刻胶、光刻胶单体和光刻胶树脂为主的国家高新技术企业，公司专注于光刻胶原材料到成品的自主研发及生产，实现了从单体、光刻胶专用树脂、光酸剂及终产品光刻胶的国产化自主可控。
徐州博康拥有5000平方研发中心，研发团队200余人，博士和硕士占比50%以上。配有KrF Nikon S204，I9，I12，ACT8 track，日立CDSEM等先进光刻检测设备，以及其它理化检测设备如ICP-MS、HPLC、GC、IR等。
目前实现的产品线涵盖193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品。 已成功开发出40+个中高端光刻胶产品系列，包括多种电子束胶，ArF干法光刻胶， KrF正负型光刻胶，I线正负型光刻胶及GHI超厚负胶，应用于IC集成电路制造多个环节，服务客户超100家。
与其他半导体光刻胶厂商相比，徐州博康的显著特色是光刻胶单体材料全部自供，光刻胶单体是光刻胶实现光刻胶功能最核心的原材料，是卡脖子材料中的卡脖子材料，徐州博康是中国目前唯一可以规模化生产中高端光刻胶单体材料的企业。
目前国产KrF、ArF光刻胶研制进展
半导体光刻胶根据激光波长不同，可分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶，对应的激光波长依次是436nm、365nm、248nm、193nm，激光波长越短，可实现的光刻精度越高，目前国内暂无厂商研制EUV光刻胶，KrF光刻胶和ArF光刻胶是目前各厂商的研制重点。
这里主要看一下KrF和ArF光刻胶的进展。KrF光刻胶方面，徐州博康和北京华科的KrF光刻胶已实现量产，徐州博康的年产值20亿的新基地经过三年的建设和爬坡已于2021年6月份正式投产；上海新阳KrF（248nm）厚膜光刻胶产品通过客户认证，并成功取得第一笔订单；晶瑞股份KrF光刻胶已进入客户测试阶段。
ArF光刻胶方面，南大光电ArF光刻胶产品已经通过客户认证；上海新阳半导体ArF干法光刻胶启动研发，预计2022实现少量销售，2023年实现量产；徐州博康正在进行干法ArF光刻胶中测，湿法ArF光刻胶正在进行研发；北京科华正在进行干法ArF光刻胶研发；晶瑞股份ArF高端光刻胶研发工作已正式启动。
在国产替代趋势下，光刻胶作为重要的半导体制造材料，是不可忽视的环节，华为哈勃从成立以来，针对半导体产业各个环节做了投资，而此次投资光刻胶似乎是可预期的。
那么选择徐州博康，最主要的可能是，不仅仅是它在光刻胶成品上的成绩，更为重要的是，它是国内唯一可以规模化生产中高端光刻胶单体材料的企业，就如上文所言，光刻胶单体是实现光刻胶功能最核心的原材料，是卡脖子材料中的卡脖子材料。
