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SK海力士第五代10纳米级DDR5 DRAM 全球首次开始数据中心兼容性验证

发布日期:2023-05-31 作者:网络

 实现现有DDR5 DRAM最高运行速度和基于‘HKMG’工艺的超低功耗

 

 

 

期待成功完成最高性能的1b DDR5 DRAM产品验证

 

“开始量产最先进的1b工艺,以业界最高DRAM竞争力水平改善今年下半年业绩”

 

明年上半年将把1b工艺扩大适用于LPDDR5T、HBM3E等高性能产品

 

2023年5月30日,SK海力士宣布,已完成现有DRAM中最为微细化的第五代10纳米级(1b)技术研发,并将适用其技术的DDR5服务器DRAM提供于英特尔公司(Intel®)开始了“英特尔数据中心存储器认证程序(The Intel Data Center Certified memory program)”。

 

此程序是英特尔的服务器用第四代至强®可扩展平台*( Intel® Xeon® Scalable platform)所采用的存储器产品兼容性的正式认证流程。

 

SK海力士向英特尔提供的DDR5 DRAM产品运行速度高达6.4Gbps(每秒6.4千兆比特),公司技术团队实现了目前市面上DDR5 DRAM的最高速度。与DDR5 DRAM初期阶段的试制品*相比,数据处理速度提升了33%

 

另外,公司在此次1b DDR5 DRAM上采用了“HKMG(High-K Metal Gate)”*工艺,与1a DDR5 DRAM相比功耗减少了20%以上

SK海力士强调:“通过1b技术的研发成功,将可向全球客户供应高性能与高效能功耗比*兼备的DRAM产品。”

 

SK海力士DRAM开发担当副社长金锺焕说道:“就如于公司在今年1月将第四代10纳米级(1a)DDR5服务器DRAM适用到英特尔®第四代至强®可扩展处理器(4th Gen Intel® Xeon® Scalable processors),并在业界首次获得认证,此次1b DDR5 DRAM产品验证也会成功完成。”

 

金副社长又说到:

有预测称从今年下半年起存储器市场状况将得到改善,公司将以1b工艺量产等业界最高的DRAM竞争力水平加速改善今年下半年业绩。又计划在明年上半年将最先进的1b工艺扩大适用于LPDDR5T和HBM3E*产品。

 

英特尔公司存储器I/O技术部门副总裁Dimitrios Ziakas表示:

英特尔公司为了DDR5 DRAM和英特尔平台间的兼容性验证,在与存储器行业紧密合作。SK海力士的1b DDR5 DRAM将适用于英特尔的新一代至强®可扩展平台,为此业界首次进行着英特尔数据中心存储器认证程序。

 

另外,SK海力士表示,为了将已完成一轮兼容性验证的1a DDR5 DRAM适用于英特尔下一代至强®可扩展平台的追加认证流程也正在同步进行中。

 

SK海力士DDR5 DRAM开发成果

2020年10月

推出全球首款DDR5 DRAM

2021年12月

全球首次提供24Gb DDR5 DRAM样品

2023年1月

全球首获1a DDR5服务器DRAM英特尔认证

2023年4月

全球首次向英特尔提供1b DDR5服务器DRAM样品

 

*DDR5 DRAM初期阶段试制品的运行速度为4.8Gbps(每秒4.8千兆比特),JEDEC标准中DDR5的最高运行速度为8.8Gbps。

 

*HKMG(High-K Metal Gate): 在DRAM晶体管内的绝缘膜上采用高K栅电介质,在防止漏电的同时还可以改善电容(Capacitance)的新一代工艺。不仅可以提高内存速度,还可降低功耗。SK海力士于去年11月推出了在移动DRAM上全球首次采用HKMG工艺的8.5Gbps LPDDR5X。在今年1月推出的9.6Gbps LPDDR5T移动DRAM也采用了HKMG工艺。

 

*效能功耗比:每一定单位功率每秒可处理的数据容量指标。

 

*HBM3E(HBM3 Extended):HBM以第一代(HBM)-第二代(HBM2)-第三代(HBM2E)-第四代(HBM3)的顺序开发,HBM3的下一代产品为第五代HBM3E。SK海力士计划在今年下半年准备具备8Gbps数据传输性能的HBM3E样品,并将于明年投入量产。

 

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