CA168首页 > 自动化信息 > 综合信息 > 信息详情

Vishay推出新款共漏极双N沟道60 V MOSFET,提高功率密度和效率

发布日期:2019-12-11 浏览次数:21188 作者:网络
 宾夕法尼亚、MALVERN 20191211日前,Vishay Intertechnology, Inc.NYSE 股市代号:VSH宣布,推出采用小型热增强型PowerPAK® 1212-8SCD封装新款共漏极N沟道60 V MOSFET---SiSF20DNVishay Siliconix SiSF20DN是业内最低RS-S(ON)60 V共漏极器件,专门用于提高电池管理系统、直插式和无线充电器、DC/DC转换器以及电源的功率密度和效率。

 

日前发布的双MOSFET10V电压下RS-S(ON) 典型值低至10 mW,是3mm x 3mm封装导通电阻最低的60 V器件比这一封装尺寸排名第二的产品低42.5%,比Vishay上一代器件低89%

 

从而降低电源通道压降,减小功耗,提高效率。为提高功率密度,SiSF20DNRS1S2(ON) 面积乘积低于排名第二的替代MOSFET 46.6 %,甚至包括6 mm x 5 mm较大封装解决方案。

 

为节省PCB空间,减少元件数量并简化设计,该器件采用优化封装结构,两个单片集成TrenchFET® 第四代n沟道MOSFET采用共漏极配置。SiSF20DN源极触点并排排列,加大连接提高PCB接触面积,与传统双封装型器件相比进一步减小电阻率。这种设计使MOSFET适合用于24 V系统和工业应用双向开关,包括工厂自动化、电动工具、无人机、电机驱动器、白色家电、机器人、安防/监视和烟雾报警器。

 

SiSF20DN进行了100 % RgUIS测试,符合RoHS标准,无卤素。

 

新型MOSFET现可提供样品并已实现量产,大宗订货供货周期为30周。
[信息搜索] [] [告诉好友] [打印本文] [关闭窗口] [返回顶部]
0条 [查看全部]  网友评论

视觉焦点